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    誠(chéng)邀您參加慕尼黑上海光博會(huì)

    2024-03-14 10:40:12 admin
    慕尼黑光博會(huì)-頭圖.jpg

    慕尼黑上海光博會(huì)將在2024年3月20-22日登陸上海新國(guó)際博覽中心,優(yōu)尼康將攜帶多臺(tái)機(jī)型參展。我們的展位號(hào)為:W4168。期待您的光臨。

    圖片關(guān)鍵詞

    展會(huì)時(shí)間:

    2024年3月20日 - 3月22日

    展會(huì)地點(diǎn):

    上海新國(guó)際博覽中心

    展位:W4.4168

    圖片關(guān)鍵詞

    官方報(bào)名入口點(diǎn)擊進(jìn)入


    參展設(shè)備

    高清大圖 (1).jpg

    F20 膜厚測(cè)量?jī)x

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    F40 膜厚測(cè)量?jī)x

    不論您是想要知道薄膜厚度、光學(xué)常數(shù),還是想要知道材料的反射率和透過(guò)率,F(xiàn)ilmetrics 膜厚儀都能滿足您的需求。僅需花費(fèi)幾分鐘完成安裝,通過(guò)USB連接電腦,設(shè)備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測(cè)量結(jié)果。

    相關(guān)應(yīng)用:半導(dǎo)體制造(光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨);LCD 液晶顯示器(聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜);光學(xué)鍍膜(硬涂層、抗反射層);MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)(光刻膠、硅系膜層)。



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    高清大圖 (1).jpg

    Profilm3D 白光干涉光學(xué)輪廓儀

    Profilm3D 使用垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術(shù)。以強(qiáng)大的性價(jià)比實(shí)現(xiàn)次納米級(jí)的表面形貌研究。

    相關(guān)應(yīng)用:粗糙度測(cè)量;三維形貌表征;臺(tái)階高度測(cè)量





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