KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡

優(yōu)尼康科技提供的KLA Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀，是一款非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。采用ZDot技術(shù)及多模式光學(xué)組件，可同時(shí)采集高分辨率3D形貌信息和樣品表面真彩色圖像。系統(tǒng)集成六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)，可對(duì)各種樣品進(jìn)行測(cè)量：透明與不透明、低反射率與高反射率、光滑表面與粗糙紋理，臺(tái)階高度測(cè)量范圍從納米級(jí)至毫米級(jí)?？商峁┡_(tái)階高度、表面粗糙度（光滑表面亞納米級(jí)粗糙度至粗糙表面數(shù)百微米粗糙度）、薄膜應(yīng)力、樣品翹曲、透明薄膜厚度（30nm至100μm）等多項(xiàng)參數(shù)測(cè)量，并具備自動(dòng)缺陷檢測(cè)功能（可捕獲大于1μm的缺陷），支持多點(diǎn)量測(cè)和圖形識(shí)別的全自動(dòng)測(cè)量。適用于半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏電池、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓級(jí)封裝（WLCSP/FOWLP）、PCB和柔性電路板、醫(yī)療器械和微流體器件、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、大學(xué)及研究實(shí)驗(yàn)室等行業(yè)。優(yōu)尼康科技提供專(zhuān)業(yè)技術(shù)支持。

產(chǎn)品名稱(chēng)：白光共聚焦顯微鏡

品牌： KLA

產(chǎn)品型號(hào)： Zeta-20

產(chǎn)地：美國(guó)

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡

圖片關(guān)鍵詞

優(yōu)尼康科技提供的KLA Zeta-20臺(tái)式光學(xué)輪廓儀，是一款非接觸式3D表面形貌測(cè)量系統(tǒng)。采用ZDot技術(shù)及多模式光學(xué)組件，可同時(shí)采集高分辨率3D形貌信息和樣品表面真彩色圖像。系統(tǒng)集成六種不同的光學(xué)量測(cè)技術(shù)，可對(duì)各種樣品進(jìn)行測(cè)量：透明與不透明、低反射率與高反射率、光滑表面與粗糙紋理，臺(tái)階高度測(cè)量范圍從納米級(jí)至毫米級(jí)。可提供臺(tái)階高度、表面粗糙度（光滑表面亞納米級(jí)粗糙度至粗糙表面數(shù)百微米粗糙度）、薄膜應(yīng)力、樣品翹曲、透明薄膜厚度（30nm至100μm）等多項(xiàng)參數(shù)測(cè)量，并具備自動(dòng)缺陷檢測(cè)功能（可捕獲大于1μm的缺陷），支持多點(diǎn)量測(cè)和圖形識(shí)別的全自動(dòng)測(cè)量。適用于半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏電池、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓級(jí)封裝（WLCSP/FOWLP）、PCB和柔性電路板、醫(yī)療器械和微流體器件、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)、大學(xué)及研究實(shí)驗(yàn)室等行業(yè)。優(yōu)尼康科技提供專(zhuān)業(yè)技術(shù)支持。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品介紹：

KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來(lái)。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對(duì)大部分材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行成像分析，從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計(jì)理念，為用戶(hù)提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來(lái)滿(mǎn)足各種不同的測(cè)量需求，所有硬件安裝和操作都簡(jiǎn)單易用。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品特點(diǎn)：

Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學(xué)測(cè)試技術(shù)，以滿(mǎn)足用戶(hù)各種不同領(lǐng)域的測(cè)試需求。
ZDotZ點(diǎn)陣三維成像技術(shù)是Zeta所有系列產(chǎn)品的標(biāo)配技術(shù)，Z點(diǎn)陣獨(dú)特的明暗場(chǎng)照明方案結(jié)合不同物鏡幫助客戶(hù)測(cè)量“困難”的表面。
ZIC干涉反襯成像技術(shù)，實(shí)現(xiàn)納米級(jí)粗糙度表面的成像及分析。
ZSI白光差分干涉技術(shù)，垂直方向分辨率可達(dá)埃級(jí)。
ZI 白光干涉技術(shù)，大視場(chǎng)下納米級(jí)高度的理想測(cè)量技術(shù)。
ZFT反射光譜膜厚分析技術(shù)，集成寬頻反射光譜分析儀，可測(cè)量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

重復(fù)性和再現(xiàn)性
接觸式測(cè)量，適用于多種材料
測(cè)量軟材料的微力控制
梯形失真校正可大幅度減少側(cè)視圖造成的失真
弧形校正補(bǔ)償探針的弧形運(yùn)動(dòng)

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品測(cè)量原理：

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過(guò)共聚焦原理實(shí)現(xiàn)樣品的高分辨率、高對(duì)比度的光學(xué)切片能力。它結(jié)合了傳統(tǒng)光學(xué)顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點(diǎn)，利用寬譜白光作為光源，通過(guò)空間濾波機(jī)制消除離焦光干擾，從而獲得高精度的三維圖像。

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡主要應(yīng)用：

臺(tái)階高度	紋理
外形	應(yīng)力
薄膜厚度	缺陷檢測(cè)

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品參數(shù)：

	ZDOT	ZI	ZIC	ZSI	ZFT
粗糙度：> 40nm	●
粗糙度：<40nm			●
大視場(chǎng)、Z方向高分辨率		●
15nm-25mm臺(tái)階高度	●
5nm-100μm臺(tái)階高度		●
<10nm 臺(tái)階高度				●
缺陷：尺寸 <1μm，高度 <75nm			●	●	●
缺陷：尺寸 >1μm，高度 >75nm				●
30nm<薄膜和厚度 <15μm
薄膜厚度 >15μm	●