光刻膠
光刻膠厚度、光學(xué)與力學(xué)性能測(cè)量
膜厚儀 · 橢偏儀 · 光學(xué)輪廓儀 · 納米壓痕 · 臺(tái)階儀 · XRF · 水滴角 — 覆蓋旋涂到固化全流程
支持紅膠、SU-8、i-line膠、光敏聚酰亞胺等材料，提供晶圓級(jí)自動(dòng)Mapping、光學(xué)常數(shù)標(biāo)定、3D形貌與力學(xué)分析
光刻膠工藝面臨的多維度測(cè)量挑戰(zhàn)
膜厚、折射率、臺(tái)階、力學(xué)與潤(rùn)濕性 — 高精度表征保障光刻良率
厚膠穿透力不足
SU-8等厚膠達(dá)百微米，傳統(tǒng)反射法失效，需橢偏或臺(tái)階儀驗(yàn)證，優(yōu)化厚光刻膠光學(xué)模型
曝光后光學(xué)常數(shù)漂移
折射率n/k值變化影響工藝窗口，Uvisel Plus/FS-8精確標(biāo)定光刻膠曝光前后光學(xué)特性
表面潤(rùn)濕性影響涂布
光刻膠與基底潤(rùn)濕性決定涂布質(zhì)量，KRUSS DSA系列測(cè)量接觸角，優(yōu)化旋涂工藝
光刻膠測(cè)量核心產(chǎn)品矩陣
針對(duì)不同工藝節(jié)點(diǎn)與材料特性，推薦最合適的設(shè)備組合 — 膜厚、光學(xué)常數(shù)、形貌、力學(xué)一站式解決
膜厚儀系列
光譜反射 F20 · F40 · F50 · F54-XY
1秒快速測(cè)量膜厚與n值，支持晶圓級(jí)自動(dòng)Mapping，適合紅膠、i-line膠等透明薄膜高效監(jiān)控。
橢偏儀
高精度n/k FS-8 · Uvisel Plus
光譜橢偏技術(shù)同時(shí)獲得膜厚與光學(xué)常數(shù)，紫外至近紅外，建模精度達(dá)亞納米，適合曝光前后折射率標(biāo)定。
光學(xué)輪廓儀 Profilm3D
非接觸3D形貌 白光干涉技術(shù)，垂直分辨率0.1nm。用于光刻膠臺(tái)階高度、表面粗糙度、微結(jié)構(gòu)三維形貌分析，補(bǔ)充膜厚儀的平面分布信息。
探索Profilm3D →臺(tái)階儀 / 電阻率儀
臺(tái)階儀提供物理臺(tái)階高度驗(yàn)證，作為膜厚儀和橢偏儀的校準(zhǔn)參考。R50/R54電阻率測(cè)量?jī)x可用于導(dǎo)電光刻膠或基底電阻率監(jiān)控。
臺(tái)階儀詳情 →XRF / 粒度儀 / 水滴角
Bowman K系列 / B系列XRF分析光刻膠中重金屬殘留；HORIBA粒度儀檢測(cè)顆粒團(tuán)聚；KRUSS DSA系列測(cè)量光刻膠與基底接觸角，優(yōu)化涂布工藝。
表面與成分分析 →以上設(shè)備可根據(jù)工藝需求靈活組合，形成從膜厚、光學(xué)常數(shù)、臺(tái)階形貌到力學(xué)和潤(rùn)濕性的完整解決方案。長(zhǎng)尾詞：半導(dǎo)體光刻膠光學(xué)常數(shù)擬合、晶圓級(jí)膜厚均勻性Mapping、SU-8納米壓痕測(cè)試、光刻膠接觸角測(cè)量服務(wù)。
主要測(cè)量技術(shù)原理對(duì)比
| 技術(shù) | 代表型號(hào) | 原理 | 光刻膠應(yīng)用 | 優(yōu)勢(shì) |
|---|---|---|---|---|
| 光譜反射膜厚儀 | F20/F40/F50/F54 | 分析反射光譜干涉，擬合厚度與n值 | 日常膜厚監(jiān)控、Mapping | 快速 簡(jiǎn)單 無損 |
| 光譜橢偏儀 | FS-8 / Uvisel Plus | 偏振態(tài)變化→厚度、n、k | 精確光學(xué)模型建立 | 極高精度 n,k分離 |
| 光學(xué)輪廓儀 | Profilm3D | 白光干涉/共聚焦，重建3D形貌 | 臺(tái)階、粗糙度、微結(jié)構(gòu) | 非接觸 縱向亞納米 |
| 納米壓痕 | G200X / iMicro | 記錄壓入載荷-位移，計(jì)算力學(xué)參數(shù) | 固化膜硬度、模量 | 微納尺度 薄膜適用 |
| 接觸角測(cè)量 | KRUSS DSA系列 | 液滴形狀分析，計(jì)算接觸角與表面能 | 涂布均勻性優(yōu)化 | 直觀 預(yù)測(cè)潤(rùn)濕性 |
自研旋涂裝置與膜厚儀F20集成
旋涂-測(cè)量一體化，加速光刻膠工藝開發(fā)
定制旋涂裝置 + Filmetrics F20膜厚儀
我們?cè)O(shè)計(jì)制造了精密旋涂裝置，可控制轉(zhuǎn)速、加速度與時(shí)間，適配4-12寸晶圓。與F20膜厚儀直接集成，旋涂后立即測(cè)量膜厚分布，快速優(yōu)化均勻性，縮短光刻膠工藝開發(fā)周期30%以上。
了解F20集成方案 →相關(guān)產(chǎn)品快速導(dǎo)航
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光刻膠測(cè)量應(yīng)用實(shí)例
SU-8厚膠臺(tái)階與硬度
光敏PI膜光學(xué)常數(shù)與潤(rùn)濕性
新型光刻膠旋涂工藝開發(fā)
常見問題
膜厚儀F20/F50/F54如何選擇？
橢偏儀和膜厚儀有何區(qū)別？
水滴角測(cè)量對(duì)光刻膠有什么幫助？
能否測(cè)試我們的樣品？
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